专利名称:改性二氧化硅溶胶及其制备方法和应用专利类型:发明专利
发明人:陈国栋,宋伟红,姚颖,宋成兵申请号:CN200880023341.3申请日:20080701公开号:CN1017929A公开日:20100623
摘要:本发明公开了改性二氧化硅溶胶及其制备方法,以及含有该改性二氧化硅溶胶的抛光液。该改性二氧化硅溶胶的二氧化硅表面键合了含环氧基基团的硅烷偶联剂。将二氧化硅溶胶、表面活性剂、以及含有环氧基基团的硅烷偶联剂混合后,进行改性反应即可。本发明的改性二氧化硅溶胶中,二氧化硅粒子表面接枝了环氧基团,一方面改变了二氧化硅粒子的亲水性,另一方面改变了二氧化硅粒子与晶圆、抛光垫表面的相互作用。基于以上两种性能改进,采用本发明所述的改性二氧化硅配制的CMP抛光液可具有较高的TEOS和BD抛光速率,同时对Ta、Cu抛光影响不大。
申请人:安集微电子(上海)有限公司
地址:201200 中国上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
国籍:CN
代理机构:上海翰鸿律师事务所
代理人:李佳铭
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