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PHOTO MASK

来源:抵帆知识网
PHOTO MASK

申请(专利)号: JP19760034757

专利号: JPS52117628A 主分类号: G03C5/00

申请日: 1976-03-29 公开公告日: 1977-10-03

分类号: G03C5/00;

申请权利人: 公开国代码: 优先权国家: 摘 要:

主权项:

TOPPAN

PRINTING CO LTD JP JP

G03F1/00; G03F1/48; G03F1/; G03F7/00; G03F7/004; H01L21/027; H01L21/308 发明设计人: SAITOU

MASATAROU 申请国代码: JP

优先权: 19760329 JP

3475776

摘 要 附 图:

权 利 要 求 说 明 书

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说 明 书

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