X射线发射器[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：X射线发射器专利类型：发明专利

发明人：维尔纳·哈格,托尼·瓦贝尔,汉斯-鲁道夫·埃尔泽纳,本

诺·齐格利格,多米尼克·克洛塔,乌尔斯·霍斯泰特勒尔

申请号：CN201180070696.X申请日：20110608公开号：CN103503110A公开日：20140108

摘要：本发明描述了一种适于在短时间内对大体积的材料均匀消毒的X射线发射器，该发射器具有长形的X射线靶窗口（22）和安装在真空室（1）中的相应的长形的电子源（5）。来自电子源的电子朝向X射线靶窗口（22）加速，该X射线靶窗口（22）当受到来自真空室（1）内的电子照射时生成从真空室（1）向外指向的X射线。电子源（5）的长形形式确保在电子源（5）的长度上具有基本上恒定的线性分布的均匀分布的电子束到达长形X射线靶窗口（2），使得从X射线靶窗口（2）生成的X射线相应地均匀分布。X射线靶窗口（2）包括支撑基底（23，24），并且在其内表面上承载由诸如钽或钨之类的靶材料制成的X射线靶层。还描述了用于制造X射线发射器的过程。

申请人：康姆艾德控股公司

地址：瑞士弗拉马特

国籍：CH

代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司

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